Deposição de vapor químico orgânico de metal (MOCVD) é um processo usado para criar filmes finos semicondutores de compostos cristalinos de alta pureza e micro/nano estruturas. Ajuste fino de precisão, interfaces abruptas, deposição epitaxial e um alto nível de controle de dopantes podem ser prontamente alcançados.
Qual é a diferença entre MOCVD e CVD?
MOCVD. A deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD) é uma variante da deposição de vapor químico (CVD), geralmente usada para depositar filmes e estruturas micro/nano finas cristalinas. Modulação fina, interfaces abruptas e um bom nível de controle de dopantes podem ser facilmente alcançados.
Quais dois fatores devem estar presentes para a deposição de vapor químico?
No entanto, os processos CVD normalmente requerem um ambiente de alta temperatura e vácuo, e os precursores devem ser voláteis.
O que é sistema Pecvd?
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) é um processo pelo qual filmes finos de vários materiais podem ser depositados em substratos a uma temperatura mais baixa do que a de Chemical Vapor Deposition (CVD) padrão). Oferecemos inúmeras inovações em nossos sistemas PECVD que produzem filmes de alta qualidade. …
Pecvd é uma técnica física de deposição de vapor?
PECVD é uma técnica bem estabelecida para deposição de uma grande variedade de filmes. Muitos tipos de dispositivos requerem PECVD para criar passivação de alta qualidade ou máscaras de alta densidade.
