A fotolitografia usa três etapas básicas do processo para transferir um padrão de uma máscara para um wafer: revestimento, revelação, exposição. O padrão é transferido para a camada superficial do wafer durante um processo subsequente. Em alguns casos, o padrão de resistência também pode ser usado para definir o padrão para um filme fino depositado.
O que é fotolitografia Como funciona?
Fotolitografia é um processo de modelagem no qual um polímero fotossensível é exposto seletivamente à luz através de uma máscara, deixando uma imagem latente no polímero que pode ser dissolvida seletivamente para fornecer padrões acesso a um substrato subjacente.
Por que a fotolitografia é usada?
Fotolitografia é um dos métodos mais importantes e fáceis de microfabricação, e é usado para criar padrões detalhados em um material. Neste método, uma forma ou padrão pode ser gravado através da exposição seletiva de um polímero sensível à luz à luz ultravioleta.
Por que a luz UV é usada na fotolitografia?
Fotolitografia permite o encapsulamento 3D de células dentro de hidrogéis por reticulação do pré-polímero contendo células sob luz UV. Uma fotomáscara é usada para obter o padrão desejado [88].
Quais são os requisitos de fotolitografia?
Em geral, um processo de fotolitografia requer três materiais básicos, fonte de luz, máscara fotográfica e fotorresistente. Photoresist, um material fotossensível,tem dois tipos, positivo e negativo. O fotorresistente positivo torna-se mais solúvel após a exposição a uma fonte de luz.
